Intel вперше використовує літографію High-NA EUV у виробництві (heise.de)

• Intel використовує High-NA EUV для Panther Lake на 18A.
• Система в Гіллсборо, Орегон; використовується для досліджень та оптимізації.
• TSMC уникає High-NA EUV через вартість, планує Low-NA до 2029.
• Intel планує ширше впровадження для техпроцесу 14A у 2027.

"Intel Foundry вперше ввів в експлуатацію систему літографії High-NA EUV від ASML (Twinscan Exe:5200B) для виробництва окремих шарів процесорів Panther Lake (Core Ultra 300) на техпроцесі 18A. Система знаходиться в Гіллсборо, штат Орегон, і покращує роздільну здатність до 9 нм. TSMC відкладає впровадження через вартість (≈350 млн євро за систему) і планує використовувати Low-NA EUV принаймні до 2029 року. Intel планує розширити використання High-NA EUV з техпроцесом 14A, який очікується у 2027 році."