Intel po raz pierwszy wykorzystuje litografię High-NA EUV w produkcji (heise.de)

• Intel używa High-NA EUV dla Panther Lake na 18A.
• System w Hillsboro, Oregon; używany do badań i optymalizacji.
• TSMC unika High-NA EUV ze względu na koszty, planuje Low-NA do 2029.
• Intel planuje szersze wdrożenie dla węzła 14A w 2027.

"Intel Foundry po raz pierwszy wdrożył system litografii High-NA EUV od ASML (Twinscan Exe:5200B) do produkcji wybranych warstw procesorów Panther Lake (Core Ultra 300) w węźle 18A. System znajduje się w Hillsboro w Oregonie i poprawia rozdzielczość do 9 nm. TSMC opóźnia wdrożenie ze względu na koszty (≈350 mln € za system) i planuje korzystać z Low-NA EUV co najmniej do 2029 r. Intel planuje szersze wykorzystanie High-NA EUV w węźle 14A przewidzianym na 2027 r."