Intel utilizza per la prima volta la litografia High-NA EUV in produzione (heise.de)

• Intel usa High-NA EUV per Panther Lake su 18A.
• Sistema a Hillsboro, Oregon; utilizzato per ricerca e ottimizzazione.
• TSMC evita High-NA EUV per costi, prevede Low-NA fino al 2029.
• Intel prevede distribuzione più ampia per nodo 14A nel 2027.

"Intel Foundry ha impiegato per la prima volta un sistema di litografia High-NA EUV di ASML (Twinscan Exe:5200B) per la produzione di strati selezionati dei processori Panther Lake (Core Ultra 300) sul nodo 18A. Il sistema, situato a Hillsboro, Oregon, migliora la risoluzione a 9 nm. TSMC ritarda l'adozione a causa dei costi (≈350 milioni € per sistema) e prevede di utilizzare Low-NA EUV fino almeno al 2029. Intel amplierà l'uso del High-NA EUV con il nodo 14A previsto per il 2027."