US-Regierung erhebt Vorwurf: ASML-EUV-Lithografie-System möglicherweise nach China gelangt (heise.de)

• US-Regierung: Hinweise auf EUV-System in China.
• ASML bestreitet Vorwurf, verweist auf Überwachung aller 314 Systeme.
• Potenzielle diplomatische Belastung zwischen USA und EU.

"Die US-Regierung hat ASML mitgeteilt, dass ein hochmodernes EUV-Lithografie-System nach China gelangt sein könnte. ASML bestreitet dies und verweist auf die lückenlose Überwachung aller 314 Systeme. Der Vorwurf belastet die Beziehungen zwischen den USA und der EU."